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Omni-Omni多角度粒度與高靈敏度Zeta電位分析儀 詳細(xì)摘要:Omni多角度粒度與高靈敏度Zeta電位分析儀*結(jié)合了背向光散射技術(shù)與傳統(tǒng)動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)以及硬件PALS(Phase Analysis Scattering,相位分析光散射)技術(shù),擁有15°、90°與173°三個(gè)散射角度,突破了傳統(tǒng)單角度光散射儀測(cè)量的局限性,硬件PALS技術(shù)*
所在地:北京北京市 更新時(shí)間:2024-06-01 在線留言 -
Omni多角度粒度與高靈敏度Zeta電位分析儀 詳細(xì)摘要:Omni多角度粒度與高靈敏度Zeta電位分析儀*結(jié)合了背向光散射技術(shù)與傳統(tǒng)動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)以及硬件PALS(Phase Analysis Scattering,相位分析光散射)技術(shù),擁有15°、90°與173°三個(gè)散射角度,突破了傳統(tǒng)單角度光散射儀測(cè)量的局限性,硬件PALS技術(shù)*
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