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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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GM1010/GM1020/GM1075EM Resist SU-8負性抗蝕劑 簡單介紹：EM Resist SU-8負性抗蝕劑產(chǎn)品，非常適合半導(dǎo)體應(yīng)用。我們的產(chǎn)品有各種形式和厚度范圍。 典型的SU-8過程包括以下步驟： 基板準備 旋涂 松弛時間以提高表面均勻度 軟烤 曝光后烘烤 發(fā)展歷程 沖洗并干燥 可選硬烤 產(chǎn)品型號：GM1010/GM1020/GM1075 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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納米壓印光刻膠 簡單介紹：公司擁有齊全的納米系列壓印膠材料，熱壓型納米壓印膠、熱塑型納米壓印膠、紫外光固化型納米壓印膠、紫外光固化納米壓印和光刻兩用膠、舉離型傳遞層材料、刻蝕型傳遞層材料、各種與納米壓印技術(shù)相關(guān)的化學(xué)藥品，如模板防粘劑、基片增粘劑等。 產(chǎn)品型號： 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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2035/2050/2075/2100光刻膠SU-8 2000 簡單介紹：SU-8 2000是一種高對比度，基于環(huán)氧的光致抗蝕劑，設(shè)計用于微加工和其他微電子應(yīng)用，需要厚，化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進配方，多年來已被MEMS生產(chǎn)商廣泛使用。使用更快干燥，極性更大的溶劑系統(tǒng)可改善涂層質(zhì)量并提高工藝產(chǎn)量。 SU-8 2000有十二種標(biāo)準粘度。通過單道涂覆工藝可以實現(xiàn)0.5至 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯(lián)的部分不溶于液體顯影劑。 產(chǎn)品型號：2035/2050/2075/2100 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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3010/3005/3025/3050SU-8 3000光刻膠 簡單介紹：SU-8 3000是一種高對比度，基于環(huán)氧的光刻膠，專為微加工和其他微電子應(yīng)用中， 需要化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 3000是SU-8和SU-8 2000的改進配方，已被廣泛采用 由MEMS生產(chǎn)商使用多年。 SU-8 3000有配制用于改善附著力和降低涂層應(yīng)力。 SU-8 3000的粘度范圍允許膜厚為4至單層涂層厚度為120 µm。 產(chǎn)品型號：3010/3005/3025/3050 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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2005/2010/2025光刻膠SU-8 2000 簡單介紹：SU-8 2000是一種高對比度，基于環(huán)氧的光致抗蝕劑，設(shè)計用于微加工和其他微電子應(yīng)用，需要厚，化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進配方，多年來已被MEMS生產(chǎn)商廣泛使用。使用更快干燥，極性更大的溶劑系統(tǒng)可改善涂層質(zhì)量并提高工藝產(chǎn)量。 SU-8 2000有十二種標(biāo)準粘度。通過單道涂覆工藝可以實現(xiàn)0.5至 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯(lián)的部分不溶于液體顯影劑。 產(chǎn)品型號：2005/2010/2025 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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美國Futurrex光刻膠 簡單介紹：Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學(xué)品制造商。產(chǎn)品以技術(shù)著稱，從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有：Ti、半導(dǎo)體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex長期與Intel實驗室合作，產(chǎn)品被廣泛收錄進美國各大學(xué)半導(dǎo)體教程，是各大研究機構(gòu)產(chǎn)品。 產(chǎn)品型號： 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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PR3、PR41Futurrex去膠液 簡單介紹：Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學(xué)品制造商。產(chǎn)品以技術(shù)著稱，從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有：Ti、半導(dǎo)體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex長期與Intel實驗室合作，產(chǎn)品被廣泛收錄進美國各大學(xué)半導(dǎo)體教程，是各大研究機構(gòu)產(chǎn)品。 產(chǎn)品型號：PR3、PR41 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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RD3、RD6美國Futurrex顯影液 簡單介紹：Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學(xué)品制造商。產(chǎn)品以技術(shù)著稱，從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有：Ti、半導(dǎo)體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex長期與Intel實驗室合作，產(chǎn)品被廣泛收錄進美國各大學(xué)半導(dǎo)體教程，是各大研究機構(gòu)產(chǎn)品。 產(chǎn)品型號：RD3、RD6 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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mr-I 7000E、mr-I 8000E德國Micro Resist納米壓印膠 簡單介紹：德國Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產(chǎn)用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學(xué)波導(dǎo)制作的光膠可供選擇。 產(chǎn)品型號：mr-I 7000E、mr-I 8000E 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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ma-N 2400、mr-EBLMicro Resist電子束及深紫外光刻膠 簡單介紹：德國Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產(chǎn)用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學(xué)波導(dǎo)制作的光膠可供選擇。 產(chǎn)品型號：ma-N 2400、mr-EBL 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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PR1系列Futurrex紫外正性光刻膠 簡單介紹：Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學(xué)品制造商。產(chǎn)品以技術(shù)著稱，從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有：Ti、半導(dǎo)體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex長期與Intel實驗室合作，產(chǎn)品被廣泛收錄進美國各大學(xué)半導(dǎo)體教程，是各大研究機構(gòu)產(chǎn)品。 產(chǎn)品型號：PR1系列 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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NR9-P、NR9G-P、NR5Futurrex紫外負性光刻膠 簡單介紹：Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學(xué)品制造商。產(chǎn)品以技術(shù)著稱，從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有：Ti、半導(dǎo)體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex長期與Intel實驗室合作，產(chǎn)品被廣泛收錄進美國各大學(xué)半導(dǎo)體教程，是各大研究機構(gòu)產(chǎn)品。 產(chǎn)品型號：NR9-P、NR9G-P、NR5 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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Microchem SU-8 2000 系列 簡單介紹：SU-8 2000化學(xué)放大，i線抗蝕劑非常適合制造 permanent性器件結(jié)構(gòu)。 這些負色調(diào)，環(huán)氧基抗蝕劑表現(xiàn)出優(yōu)異的耐化學(xué)性和低的楊氏模量，使其成為制造微/納米結(jié)構(gòu)的理想選擇，如懸臂，膜和微通道。 產(chǎn)品型號： 所在地：上海市 更新時間：2024-05-16 |
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SU-8 3035， 3050Microchem SU-8 3000系列 簡單介紹：SU-8 3000已被配制用于改進的粘合性和降低的涂層應(yīng)力。它被用于需要高結(jié)合強度和改進的微結(jié)構(gòu)制造柔性的地方。 結(jié)果，大大提高了與基板的粘合性。 產(chǎn)品型號：SU-8 3035， 3050 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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