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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 參考價(jià) | 面議 |
更新時(shí)間：2024-05-17 08:15:49瀏覽次數(shù)：2425
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| 供貨周期 | 一個(gè)月以上 | 規(guī)格 | 4L |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
Futurrex產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：
1、Futurrex光刻膠黏附性好，無(wú)需使用增粘劑（HMDS）
2、負(fù)性光刻膠常溫下可保存3年
3、150度烘烤，縮短了烘烤時(shí)間
4、單次旋涂能夠達(dá)到100um膜厚
5、顯影速率快，100微米的膜厚，僅需6~8分鐘
品牌 | 產(chǎn)地 | 型號(hào) | 特性 | 應(yīng)用 | 對(duì)生產(chǎn)力的影響 |
Futurrex | 美國(guó) | RD3 | 堿性水溶液 | 光膠圖案顯影 Futurrex臨時(shí)粘層、 | 一種顯影液可同時(shí)應(yīng)用于正膠和負(fù)膠在去除PC3系列平坦化層時(shí)作為去除劑 |
RD6 | |||||
Micro Resist | 德國(guó) | ma~D332S | 避免接觸酸和氧化劑 | 用于半導(dǎo)體芯片或微納結(jié)構(gòu)制作 | 用于光刻膠的顯影 |
