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北京亞科晨旭科技有限公司
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全自動原子力顯微鏡AAFM

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號Bruker

品       牌Bruker/布魯克

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地北京市

更新時間:2024-10-12 14:52:15瀏覽次數(shù):309次

聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)
產(chǎn)地類別 進口 定位檢測噪聲 35
價格區(qū)間 500萬-1000萬 樣品尺寸 300*300mm
樣品臺移動范圍 300*300mm*mm 儀器種類 原子力顯微鏡
應(yīng)用領(lǐng)域 化工,能源,電子/電池,汽車及零部件,電氣 粗糙度 0.1nm
InSight AFP是世上性能*高、行業(yè)首-選的先進技術(shù)節(jié)點CMP輪廓和蝕刻深度計量系統(tǒng)。將其現(xiàn)代尖-端掃描儀與固有的穩(wěn)定電容式壓力計和精確的空氣軸承定位系統(tǒng)相結(jié)合,可以在模具的活動區(qū)域進行非破壞性的直接測量。

Bruker 全自動原子力顯微鏡 InSight AFP

——第五代AFP具有業(yè)界高的分辨率、快的成型速度和快速的3D模具映射

InSight AFP是世上性能*高、行業(yè)首-選的先進技術(shù)節(jié)點CMP輪廓和蝕刻深度計量系統(tǒng)。將其現(xiàn)代尖-端掃描儀與固有的穩(wěn)定電容式壓力計和精確的空氣軸承定位系統(tǒng)相結(jié)合,可以在模具的活動區(qū)域進行非破壞性的直接測量。

·0.3納米長期穩(wěn)定
提供NIST可追蹤的參考計量,并在一年內(nèi)保持測量的穩(wěn)定性

·260-340個站點/小時
內(nèi)聯(lián)應(yīng)用程序的*高生產(chǎn)效率
減少MAM時間和優(yōu)化的晶圓處理可保持高達50個晶圓/小時的吞吐量

·高達36000微米/秒
仿形速度
通過熱點識別提供高分辨率3D特征

·*高分辨率,尖-端壽命長
InSight AFP的TrueSense®技術(shù),具有原子力分析器經(jīng)驗證的長掃描能力。亞微米特征的蝕刻深度、凹陷和侵蝕可以  自動化地監(jiān)控,具有    的可重復(fù)性,無需依賴測試鍵或模型。

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蝕刻和CMP晶片的全自動在線過程控制

Insight AFP結(jié)合了原子力顯微鏡的新創(chuàng)新,包括Bruker的專有CDMode,用于表征側(cè)壁特征和粗糙度。CDmode減少了所需的橫截面數(shù)量,實現(xiàn)了顯著的成本節(jié)約。此外,AFP數(shù)據(jù)提供了無法通過其他技術(shù)獲得的直接側(cè)壁粗糙度測量。

自動缺陷審查和分類

當今集成電路的器件缺陷比以往任何時候都小,需要快速解決HVM需求。InSight AFP提供了有關(guān)半導(dǎo)體晶片和PHTOmask缺陷的快速、可操作的地形和材料信息,使制造商能夠快速識別缺陷源并消除其對生產(chǎn)的影響。


100倍高分辨率配準光學(xué)元件和AFM全局對準可使圖案化晶圓和掩模的原始圖像放置精度低于±250 nm,確保感興趣的缺陷是測量的缺陷。該系統(tǒng)與KLARITY和大多數(shù)其他YMS系統(tǒng)  兼容。

3D模具映射和HyperMap™

分析速度高達36000μm/sec,能夠?qū)?3mm x 26mm及更大的閃光場進行快速、完整的3D CMP后表征和檢查。超2納米的平面外運動,實現(xiàn)真正的大規(guī)模地形和全自動拋光后熱點檢測。


在本例中,在24小時內(nèi)以1微米x 1微米像素大小獲得了完整的標準26毫米x 33毫米十字線場掃描。然后可以使用Bruker的熱點檢測和審查功能自動檢測和重新掃描熱點。

售后服務(wù)

Bruker 全自動原子力顯微鏡 InSight  CAP

——緊湊型高性能剖面儀和AFM

Bruker的InSight CAP自動原子力輪廓儀是專門為半導(dǎo)體制造商和供應(yīng)商設(shè)計的CMP和蝕刻計量組合平臺。靈活的配置支持從100毫米到300毫米的晶圓尺寸,可實現(xiàn)廣泛終端應(yīng)用的精確測量。從高生產(chǎn)率的實驗室到全自動化的工廠,InSight CAP profiler可以優(yōu)化配置,以獲得具成本效益的計量解決方案。

·< 0.5 nm長期動態(tài)再現(xiàn)性

用于關(guān)鍵工藝決策的直接、穩(wěn)定的在線計量

·亞納米
CMP自動計量的靈敏度,專用碟形和腐蝕計量包,用于    的過程控制和開發(fā)

·<20nm
仿形平面度大于26mm
針對關(guān)鍵EUV光刻技術(shù)開發(fā)和過程控制的高精度CMP后平面度計量

在線計量結(jié)果以分鐘為單位,適用于蝕刻和CMP的技術(shù)開發(fā)和過程控制

在高級技術(shù)節(jié)點,多模式光刻技術(shù)對CMP提出了納米級的過程控制要求,以滿足聚焦深度需求。InSight CAP圍繞新一代AFM掃描儀構(gòu)建,在65μm X/Y掃描范圍內(nèi)提供改進的平坦度,小于10納米。該系統(tǒng)的NanoScope®V 64位AFM控制器提供了5倍更快的嚙合性能和5倍更快的調(diào)整速度,以提高生產(chǎn)效率,所有這些都提高了可靠性。其DT自適應(yīng)掃描模式也有助于加快掃描速度和改進計量。InSight CAP高分辨率剖面儀結(jié)合了多項先進功能,可在宏觀凹陷和侵蝕中實現(xiàn)埃級精度測量。

靈活的配置支持從100毫米到300毫米的晶圓尺寸,可實現(xiàn)廣泛終端應(yīng)用的精確測量。從高生產(chǎn)率的實驗室到全自動化的工廠,InSight CAP profiler可以優(yōu)化配置,以獲得具成本效益的計量解決方案。

售后服

 

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