當前位置:德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司>>Deposition沉積系統(tǒng)>>熱蒸發(fā)鍍膜熱蒸發(fā)鍍膜>> NEE-4000E-Beam電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
NTE-3500Thermal Evaporator熱蒸發(fā)系統(tǒng)
NEE-4000E-Beam電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
NEE-4000E-Beam電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
NEE-4000E-Beam電子束蒸發(fā)系統(tǒng)概述:
NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔體的配置,其中樣品臺位于主腔體內,二級腔體則用于安置電子束源。兩腔體之間帶有門閥作為預真空鎖,使電子束源腔體保持真空的情況下,通過主腔體放入基片到樣平臺(或夾具)上或從中取出。在需要自動裝/卸載基片時,可以通過第三方的預真空鎖來實現(xiàn)。通過PC計算機控制,系統(tǒng)可以提供多電子束源的共蒸發(fā)能力,以及對組分或組分梯度進行編程的能力。
產品特點:
產品型號:
請輸入賬號
請輸入密碼
以上信息由企業(yè)自行提供,信息內容的真實性、準確性和合法性由相關企業(yè)負責,化工儀器網對此不承擔任何保證責任。
溫馨提示:為規(guī)避購買風險,建議您在購買產品前務必確認供應商資質及產品質量。