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目錄:深圳市科晶智達科技有限公司>>薄膜制備設備>>蒸發(fā)鍍膜設備>> OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐

OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐
  • OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐
  • OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
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  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 深圳市
屬性

產(chǎn)地類別:國產(chǎn) 應用領域:電氣

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更新時間:2025-02-17 12:51:38瀏覽次數(shù):1184評價

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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應用領域 電氣
OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐,其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門設計針對于熱蒸發(fā)或CSS(Close Spaced Sublimation)鍍膜實驗,其鍍膜面積可達到5“x5“,并且頂部載樣臺可旋轉(zhuǎn),提高鍍膜均勻性。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管(分別位于頂部和底部),大升溫速率為10ºC/s 。對于探索新一代的薄膜太陽能電池,

 

OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸近距離旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐

是一款5英寸近距離旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐,其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。

此款設備專門設計針對于熱蒸發(fā)或CSS(Close Spaced Sublimation)鍍膜實驗,其載樣臺尺寸5"x5",

并且頂部載樣臺可旋轉(zhuǎn),提高鍍膜均勻性。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管(分別位于頂部和底部),

最大升溫速率為10oC/s 。對于探索新一代的薄膜太陽能電池,如CdTe、硫化物和鈣鈦礦結(jié)構(gòu)太陽能電池,

這是一款理想的實驗工具。

 性能指標和基本配置
產(chǎn)品特點

● 由兩組紅外燈管作為加熱元件,分別位于頂部和底部,兩溫度控制器進行獨立控溫
● 最大升溫速率為10℃/s
● 最高溫度可達800℃
● 兩樣品臺距離以及旋轉(zhuǎn)均可通過觸摸屏控制
● 頂部載樣臺可旋轉(zhuǎn)

工作電壓

AC 220V, 50/60Hz (需要50A的空氣開關)

真空法蘭

● 空法蘭為316不銹鋼制作
● 頂部法蘭(可通過控制盒進行上升和下降):
   機械壓力表
   KF16接口,可以安裝防腐真空計
   兩個不銹鋼精密針閥用于氣體的進出
● 底部法蘭:
   KF25接口,可以與真空泵相連接
   法蘭是通過兩個硅膠O型圈進行密封:
   真空度:20Pa(機械泵)
   真空度:10-1Pa(分子泵)
image.png

加熱元件和載樣臺

● 由兩組紅外燈管作為加熱元件,分別位于頂部和底部
● 兩個加熱臺之間的距離可以通過直流電機調(diào)節(jié)(觸摸屏控制)
● 頂部載樣臺轉(zhuǎn)速可調(diào)(觸摸屏控制)
● 為了減少熱量輻射和達到較快的冷卻速率,加熱元件安裝在帶有水冷夾層的不銹鋼殼體中,(不銹鋼殼體采用316不銹鋼制作)
● 采用導熱率較高的氮化鋁陶瓷片(5"×5"×0.5mm厚度)作為載樣臺,以達到較好的加熱均勻性
● 注:可選購5"x5"的石墨坩堝放于底部載樣臺用來盛放蒸發(fā)原料,提高溫度均勻性
  image.png

溫控系統(tǒng)

● 兩個精密的溫控系統(tǒng)分別獨立控制上下兩個加熱區(qū),可設置30段升降溫程序
● 每個溫控系統(tǒng)都帶有超溫和斷偶保護
● PC通訊接口,軟件可安裝,可將控溫程序和溫度曲線導入到電腦中

工作溫度

● 最高工作溫度為:800℃
● 兩個加熱區(qū)之間的最大溫差為300℃

加熱和冷卻速率

● 建議加熱速率≤ 10oC/s(每個溫區(qū)單獨加熱)
● 冷卻速率> 10oC/s (800 - 300oC)

熱電偶

兩個K型熱電偶,安裝在頂部和底部,都與氮化鋁陶瓷片相接觸

可選

● 此款儀器使用時需要配用一循環(huán)水冷機(58L/min)
● 實驗時需要一個真空泵,可與本公司選購真空泵
● 若要使真空腔體內(nèi)達到更潔凈的工作環(huán)境,可換購無油泵
● 可選購質(zhì)子流量計混氣系統(tǒng),將實驗所需氣體安比列混好后導入到真空腔體中
  image.png

產(chǎn)品尺寸

790mm × 600mm × 1100mm
image.png

應用注意事項● 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa。
● 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高,所以向爐管內(nèi)通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全。
● 對于樣品加熱的實驗,不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發(fā)生(如爐管破裂,法蘭飛出等)。
保修期一年保修,終身技術支持。
特別提示:
1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內(nèi)。
2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。
點擊查看售后服務承諾書。


OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸近距離旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐

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