目錄:深圳市科晶智達(dá)科技有限公司>>薄膜制備設(shè)備>>蒸發(fā)鍍膜設(shè)備>> 鈣鈦礦鍍膜機(jī)
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更新時(shí)間：2025-02-17 12:53:19瀏覽次數(shù)：1650評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電氣 |
|---|
鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等，可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作，廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領(lǐng)域。
| 功能特點(diǎn) |
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樣品位于真空室上方，蒸發(fā)源位于真空室下方，向上蒸發(fā)鍍膜，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置。
設(shè)有烘烤加熱功能，可在鍍膜過程中加熱樣品，MAX烘烤加熱溫度為180℃。
設(shè)有斷水、斷電連鎖保護(hù)報(bào)警裝置及防誤操作保護(hù)報(bào)警裝置。
| 技術(shù)參數(shù) | ||
|---|---|---|
| 鍍膜室 | ● 不銹鋼材料，采用方形前后開門結(jié)構(gòu)，內(nèi)帶有防污板，腔室尺寸約為600mm×450mm×450mm | |
| 真空排氣系統(tǒng) | ● 采用分子泵+機(jī)械泵系統(tǒng) | |
| 真空度 | ● 鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa | |
| 系統(tǒng)漏率 | ● ≤1×10-7Pa | |
| 蒸發(fā)源 | ● 安裝在真空室的下底上；有機(jī)蒸發(fā)源4個(gè)、容積5ml，2臺(tái)蒸發(fā)電源，可測溫、控溫，加熱溫度400℃，功率0.5KW；無機(jī)蒸發(fā)源4套、容積5ml，2臺(tái)蒸發(fā)電源，加熱電流300A，功率3.2KW；蒸發(fā)源擋板采用自動(dòng)磁力控制方式控制其開啟 | |
| 樣品架 | ● 安裝在真空室的上蓋上，可放置?120mm的樣品、載玻片，旋轉(zhuǎn)速度0-30rpm | |
| 加熱溫度 | ● RT-180℃，測溫、控溫 | |
| 膜厚控制儀 | ● 石英晶振膜厚控制儀，膜厚測量范圍0-999999? | |
鈣鈦礦鍍膜機(jī)
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