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● 真空控制單元全部集合在一個控制盒內(nèi)。
● 采用獨立的蒸鍍電流控制器，操作方便快捷。
● 真空腔體設(shè)有1個KF40旁抽閥（直接與前級機(jī)械泵相連，方便快速取放樣品，提高效率）、1個CF150閘板 閥（直接與分子泵相連）、1個KF16法蘭（安裝電阻規(guī)）、5個CF35法蘭（1個安裝電離規(guī)，4個備用，便于安裝其他設(shè)備）。
● 在腔體底部配有5個水冷電極，可支持4個蒸鍍加熱舟。
● 4個蒸鍍加熱舟上方配有獨立的可移動擋板，有效地避免蒸發(fā)時相互污染。
● 樣品臺安裝在腔體的頂部。
● 腔內(nèi)可裝高分辨率的薄膜測厚儀，精度為10?。
● 可使用循環(huán)水冷機(jī)。

● 輸入：單相AC208-240V，20A，50Hz/60Hz，<10KW
● 輸出：0-8V AC 可調(diào)，最大電流400A，最大功率8000W（包括真空泵）
● 真空腔：Φ300mm（內(nèi)徑）×400mm，不銹鋼，內(nèi)壁經(jīng)電拋光處理
  
● 腔門：Φ200mm
● 觀察窗：Φ95mm，采用專用密封圈密封
● 真空泵：高抽速渦輪分子泵，抽速600L/s（標(biāo)配GZK-103G分子泵）
● 真空度：5.0×10-6torr（泵開啟40min后）
● 極限真空度：5.0×10-7torr （加熱溫度為100℃-150℃）
● 漏率：5.0×10-7Pa/s
● 樣品臺：Φ140mm
● 蒸發(fā)舟與樣品臺間距：260mm
● 冷卻水需量：15L/min

650mm×1200mm×1600mm；