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NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī):*進(jìn)的全自動(dòng)濺射系統(tǒng)帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能的8“旋轉(zhuǎn)樣平臺(tái),Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。...
NSC-3500(M)磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真...
NSC-3500(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng):立式自動(dòng)系統(tǒng),帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...
NSC-4000(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng):立式自動(dòng)系統(tǒng),帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...
NSC-4000NSC-4000(M)磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦...
NEE-4000(A)全自動(dòng)電子束蒸發(fā)系統(tǒng):NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔配置,樣品臺(tái)位于主腔體,二級(jí)腔體則用于安置電子束源。兩腔體之間的門閥作為預(yù)真空鎖...
NEE-4000(M)電子束蒸發(fā)系統(tǒng):NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔體的配置,樣品臺(tái)位于主腔體,二級(jí)腔體則用于安置電子束源。兩個(gè)腔體之間的門閥可以作為預(yù)真...
NTE-3500Thermal Evaporator熱蒸發(fā)系統(tǒng):提供NTE-4000和NTE-3000型號(hào)的PC計(jì)算機(jī)控制的熱蒸發(fā)系統(tǒng),可沉積有機(jī)物和金屬。設(shè)備...
NEE-4000E-Beam電子束蒸發(fā)系統(tǒng): NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔體的配置,其中樣品臺(tái)位于主腔體內(nèi),二級(jí)腔體則用于安置電子束源。兩腔體之間帶有門...
NTE-3500(M)熱蒸發(fā)系統(tǒng):NTE-3500是PC控制的緊湊型立式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及...
NTE-3500(A)全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng):全自動(dòng)立式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝特點(diǎn)。具有...
NTE-4000(M)熱蒸發(fā)系統(tǒng):NTE-4000是PC控制的立式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)...
NTE-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng):NTE-3000是PC控制的臺(tái)式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝...
NTE-4000(A)NTE-4000(A)全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng):全自動(dòng)立式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及...
NOC-4000離子束刻蝕濺射鍍膜一體機(jī):NANO-MASTER 離子束清洗拋光-磁控濺射鍍膜系統(tǒng)提供*進(jìn)的技術(shù),在一個(gè)腔體中實(shí)現(xiàn)原子級(jí)清洗和光學(xué)樣片拋光,然后...
光學(xué)元件原子級(jí)拋光鍍膜設(shè)備:NANO-MASTER 離子束清洗拋光-磁控濺射鍍膜系統(tǒng)提供*進(jìn)的技術(shù),在一個(gè)腔體中實(shí)現(xiàn)原子級(jí)清洗和光學(xué)樣片拋光,然后把樣片傳送到第...
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