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NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，Z大可支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)...

NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真...

NSC-3000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：臺(tái)式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...

NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)：*進(jìn)的全自動(dòng)濺射系統(tǒng)帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能的8“旋轉(zhuǎn)樣平臺(tái),Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。...

NSC-3500（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真...

NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：立式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...

NSC-4000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：立式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...

NSC-4000NSC-4000（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦...

NEE-4000（A）全自動(dòng)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)：NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔配置，樣品臺(tái)位于主腔體，二級(jí)腔體則用于安置電子束源。兩腔體之間的門閥作為預(yù)真空鎖...

NEE-4000（M）電子束蒸發(fā)系統(tǒng)：NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔體的配置，樣品臺(tái)位于主腔體，二級(jí)腔體則用于安置電子束源。兩個(gè)腔體之間的門閥可以作為預(yù)真...

NTE-3500Thermal Evaporator熱蒸發(fā)系統(tǒng)：提供NTE-4000和NTE-3000型號(hào)的PC計(jì)算機(jī)控制的熱蒸發(fā)系統(tǒng)，可沉積有機(jī)物和金屬。設(shè)備...

NEE-4000E-Beam電子束蒸發(fā)系統(tǒng)： NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔體的配置，其中樣品臺(tái)位于主腔體內(nèi)，二級(jí)腔體則用于安置電子束源。兩腔體之間帶有門...

NTE-3500（M）熱蒸發(fā)系統(tǒng)：NTE-3500是PC控制的緊湊型立式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及...

NTE-3500（A）全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng)：全自動(dòng)立式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝特點(diǎn)。具有...

NTE-4000（M）熱蒸發(fā)系統(tǒng)：NTE-4000是PC控制的立式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)...

NTE-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)：NTE-3000是PC控制的臺(tái)式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝...

NTE-4000（A）NTE-4000（A）全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng)：全自動(dòng)立式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及...

NOC-4000離子束刻蝕濺射鍍膜一體機(jī)：NANO-MASTER 離子束清洗拋光-磁控濺射鍍膜系統(tǒng)提供*進(jìn)的技術(shù)，在一個(gè)腔體中實(shí)現(xiàn)原子級(jí)清洗和光學(xué)樣片拋光，然后...

光學(xué)元件原子級(jí)拋光鍍膜設(shè)備：NANO-MASTER 離子束清洗拋光-磁控濺射鍍膜系統(tǒng)提供*進(jìn)的技術(shù)，在一個(gè)腔體中實(shí)現(xiàn)原子級(jí)清洗和光學(xué)樣片拋光，然后把樣片傳送到第...

NRE-4000（ICPA）全自動(dòng)ICP刻蝕系統(tǒng)：自動(dòng)上下載片，帶ICP等離子源和偏壓樣品臺(tái)的高速刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)可以達(dá)到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果?？蓪?shí)...