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森泰克刻蝕機(jī)Etchlab 200 適用于氟基氣體以及氧氣、氬氣等工藝氣體，具有非常高的工藝穩(wěn)定性和重復(fù)性。升級(jí)增加預(yù)真空室后，可使用氯基氣體、完成金屬、化合物...

森泰克感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)SI 500干法刻蝕系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、微納加工、MEMS制造等領(lǐng)域。它可以用于刻蝕多種材料，包括但不限于三五族化合物半導(dǎo)體（如...

簡(jiǎn)要描述：RIE等離子刻蝕機(jī)2我們的等離子蝕刻設(shè)備包括用功能強(qiáng)大的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面，參數(shù)窗口，工藝窗口，數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

簡(jiǎn)要描述：RIE等離子刻蝕機(jī)該等離子刻蝕機(jī)配備了用戶友好的強(qiáng)大軟件，具有模擬圖形用戶界面，參數(shù)窗口，工藝編輯窗口，數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

簡(jiǎn)要描述：ICP-RIE等離子刻蝕機(jī)三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻...

簡(jiǎn)要描述：等離子沉積設(shè)備低刻蝕速率，高擊穿電壓，低應(yīng)力、不損傷襯底以及在低于100#176;C的沉積溫度下的低界面態(tài)密度，使得所沉積的薄膜具有優(yōu)異的性能。