一、產(chǎn)品概述：

 Nikon NSR 2005i10C步進(jìn)式光刻機(jī)是一款高精度的半導(dǎo)體制造設(shè)備，該機(jī)型采用先進(jìn)的步進(jìn)光刻技術(shù)，能夠?qū)崿F(xiàn)高分辨率和高精度的圖案轉(zhuǎn)移，廣泛應(yīng)用于集成電路（IC）、微處理器和存儲(chǔ)器等電子元件的制造。憑借其良好的成像質(zhì)量和快速的曝光速度，Nikon NSR 2005i10C非常適合大批量生產(chǎn)，同時(shí)其用戶友好的操作界面和高效的自動(dòng)化功能提升了生產(chǎn)效率。這使得Nikon NSR 2005i10C成為現(xiàn)代半導(dǎo)體制造過(guò)程中的重要工具，滿足行業(yè)對(duì)高質(zhì)量和高效率的需求。

二、設(shè)備用途/原理：

該設(shè)備通過(guò)高強(qiáng)度光源將掩模上的圖案逐步投影到涂有光刻膠的晶圓表面。光源發(fā)出特定波長(zhǎng)的光線，經(jīng)過(guò)高分辨率光學(xué)系統(tǒng)，精確地將掩模圖案投影到晶圓上進(jìn)行曝光。曝光后，光刻膠的化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，隨后進(jìn)行顯影，去除未曝光或已曝光的光刻膠，從而形成所需的圖案。接著，利用刻蝕工藝將圖案轉(zhuǎn)移到晶圓材料上，最后去除殘留的光刻膠。通過(guò)這一系列步驟，Nikon NSR 2005i10C能夠高效地實(shí)現(xiàn)復(fù)雜圖形的精確轉(zhuǎn)移，滿足現(xiàn)代半導(dǎo)體制造的高標(biāo)準(zhǔn)要求。

三、主要技術(shù)指標(biāo)：

四、設(shè)備特點(diǎn)

Nikon NSR 2005i10C步進(jìn)式光刻機(jī)

光源波長(zhǎng)365nm

分辨率優(yōu)于0.45µm

主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線

廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等