一、產(chǎn)品概述：

Nikon EX14C步進(jìn)式光刻機(jī)是一款高精度的半導(dǎo)體制造設(shè)備，專為 200mm 晶圓的生產(chǎn)而設(shè)計(jì)。該機(jī)型采用先進(jìn)的步進(jìn)光刻技術(shù)，能夠?qū)崿F(xiàn)高分辨率和高精度的圖案轉(zhuǎn)移，廣泛應(yīng)用于集成電路（IC）、微處理器和存儲器等電子元件的制造。憑借其良好的成像質(zhì)量和快速的曝光速度，Nikon EX14C非常適合大批量生產(chǎn)，同時其用戶友好的操作界面和高效的自動化功能提升了生產(chǎn)效率。這使得 Nikon Nikon EX14C成為現(xiàn)代半導(dǎo)體制造過程中的重要工具，滿足行業(yè)對高質(zhì)量和高效率的需求。

二、設(shè)備用途/原理：

該設(shè)備利用高強(qiáng)度光源將掩模上的圖案逐步投影到涂有光刻膠的晶圓表面。光源發(fā)出特定波長的光線，通過高分辨率光學(xué)系統(tǒng)，將掩模圖案精確地投影到晶圓上進(jìn)行曝光。曝光后，光刻膠的化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，接著進(jìn)行顯影，去除未曝光或已曝光的光刻膠，形成所需的圖案。隨后，利用刻蝕工藝將圖案轉(zhuǎn)移到晶圓材料上，最后去除殘留的光刻膠。通過這一系列步驟，Nikon SF120/130 能夠高效地實(shí)現(xiàn)復(fù)雜圖形的精確轉(zhuǎn)移，滿足現(xiàn)代半導(dǎo)體制造的高標(biāo)準(zhǔn)要求。

三、主要技術(shù)指標(biāo)：

四、設(shè)備特點(diǎn)

Nikon EX14C步進(jìn)式光刻機(jī)

光源波長248nm

分辨率優(yōu)于0.25µm

主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線

廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等