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深圳市矢量科學儀器有限公司

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CMP后清洗機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號GNP CLEANER-428L

品牌G&P

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地韓國

更新時間：2024-09-05 09:48:10瀏覽次數(shù)：385次

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GNP CLEANER-428L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~8“)晶圓。

1. 產(chǎn)品概述：

適用晶圓尺寸:100mm(4) ~ 200mm(8")

配置:獨立配置4個清洗工位用DIW噴霧預清洗兩個雙面滾刷清洗用氮氣吹干旋轉(zhuǎn)漂洗

清潔器尺寸:1800 w 970D 1500 hmm

電刷尺寸:038(OD) 018(ID) 310(L)mm

預清洗工位:DIW噴霧清洗，工位間DIW帷幕清洗輥刷工位

化學:2個化學泵(每個刷室1個)，NH4OH(< 0.1wt%)或DIW

刷型:雙面PVA刷刷位調(diào)節(jié):手動控制(可用刷隙范圍:-1.5mm ~ 2mm)

轉(zhuǎn)速:<滿量程的2%

范圍30 ~ 400rpm

化學品流量:滿量程< 1L/min

DI流量:滿量程< 5L/min

旋轉(zhuǎn)速度:高2500轉(zhuǎn)/分DIW沖洗/ N2吹掃/強掃

控制工藝:噴淋清洗/雙面刷清洗/旋漂干洗/濕洗/干洗

程序控制:PC & PC觸摸監(jiān)控，程序可編程，計算機網(wǎng)絡可比


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