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雙軸半自動劃片機
雙軸半自動劃片機是一款先進的半導體切割設備，廣泛應用于半導體制造和封裝領域。該設備結(jié)合了高精度、高效率和穩(wěn)定性等特點，能夠滿足現(xiàn)代半導體工業(yè)對切割精度的嚴格要求...
型號： 7920 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:54:18 對比

劃片機
12英寸特種金屬膜層刻蝕設備
LMEC-300™ 是魯汶儀器針對特種金屬膜層刻蝕而推出的 12 英寸集成設備，應用于新興存儲器件的制備。此類器件的核心功能單元含有成分復雜的金屬疊...
型號： LMEC-300 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:45:53 對比

離子刻蝕
12英寸離子束塑形（IBS) 設備
Pangea®A系列常規(guī)IBS設備由離子源柵極引出正離子并加速，中性束流撞擊樣品表面，濺射形成刻蝕圖像。由于等離子體的產(chǎn)生遠離晶圓空間，起輝不受非揮發(fā)...
型號： Pangea... 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:43:05 對比

離子束刻蝕
RIE等離子刻蝕系統(tǒng)
RIE-200NL是一種負載鎖定型的反應離子蝕刻系統(tǒng)，它提高了工藝的可重復性，并允許腐蝕性氣體化學。優(yōu)化的工藝室設計可在ø8 “晶圓或ø22...
型號： RIE-200NL 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:41:42 對比

RIE等離子刻蝕系統(tǒng)RIE-200NL SAMCO
8英寸離子束塑形（IBS）設備
Lorem® A 系列常規(guī) IBS 設備，由離子源柵極引出正離子并加速，中性束流撞擊樣品表面，濺射形成刻蝕圖像。由于等離子體的產(chǎn)生遠離晶圓空間，起輝不...
型號： Lorem... 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:39:49 對比

離子束刻蝕
8英寸離子束沉積（IBD）設備
Ganister™ A離子束沉積設備，是針對低溫、高致密、高均勻性薄膜沉積工藝所開發(fā)的專用產(chǎn)品，在硬盤磁頭、硬磁偏置層、布拉格反射鏡等器件的制備中有...
型號： Ganister&... 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:37:11 對比

離子束沉積離子束刻蝕
劃片機
7234劃片機是一款高精度的半導體切割設備，主要用于晶圓或其他材料的切割加工。它配備了4英寸的空氣軸承主軸，采用直流無刷電機驅(qū)動，轉(zhuǎn)速高達30krpm，能夠兼容...
型號： 7234 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:35:19 對比

劃片機
12英寸硬掩膜刻蝕設備
Herent® Chimera® A 金屬硬掩膜刻蝕設備，為針對 12 英寸 IC 產(chǎn)業(yè)的后道銅互連中氮化鈦（TiN）金屬硬掩膜刻蝕（met...
型號： Herent... 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:34:09 對比

離子束刻蝕
勻膠機
Laurell的EDC-650-23B型勻膠機結(jié)構(gòu)緊湊，具有先進的功能。這款650系列EDC系統(tǒng)將可容納最大150mm晶圓和5英寸×5英寸（127mm...
型號： EDC-650-2... 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:32:39 對比

半導體前道勻膠機
反應性離子刻蝕系統(tǒng)RIE
PlasmaPro 800系列是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng)，該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應離子蝕刻（RIE）工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的...
型號： PlasmaPro... 所在地：英國參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:29:58 對比

RIE 牛津刻蝕大尺寸
12英寸金屬刻蝕設備
Herent® Chimera® M 金屬刻蝕設備，為針對12英寸IC產(chǎn)業(yè)0.18微米以下后道高密度鋁導線互連工藝所開發(fā)的專用產(chǎn)品，同時也...
型號： Herent... 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:29:23 對比

金屬刻蝕
有掩膜光刻機
VPG 200 / VPG 400 體積圖形發(fā)生器是光刻系統(tǒng)，專為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設計。它們支持所有標準的中小型面罩尺寸，最大尺寸為 4...
型號： VPG 200 /... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:25:58 對比

掩模制造
8英寸硅刻蝕設備
Tebaank® Pishow® P 硅刻蝕設備是面向8英寸集成電路制造的量產(chǎn)型設備設備由電感耦合等離子體刻蝕腔（ICP etch cham...
型號： Tebaank&#... 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:20:32 對比

深硅刻蝕
8英寸金屬刻蝕設備
Kessel™ Pishow® M 金屬刻蝕設備為可用于8英寸的IC產(chǎn)線鋁金屬工藝的量產(chǎn)型機臺，基于自有開發(fā)的優(yōu)化設計，保證了優(yōu)異的刻蝕均...
型號： Kessel... 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:13:45 對比

金屬刻蝕
8英寸電感耦合等離子體刻蝕設備
詳細介紹ICP是一種加工微納結(jié)構(gòu)的8英寸電感耦合等離子體刻蝕設備。具有刻蝕快、選擇比高、各項異性高、刻蝕損傷小、均勻性好、斷面輪廓可控性高、刻蝕表面平整度高等優(yōu)...
型號： Pishow... 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:09:34 對比

ICP
反應性離子刻蝕系統(tǒng)RIE
PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設計可實...
型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:02:42 對比

牛津刻蝕 RIE
雙光子聚合直寫光刻機
MPO 100雙光子聚合直寫光刻機是一種雙光子聚合（TPP）多用戶工具，用于微結(jié)構(gòu)的 3D 光刻和 3D 顯微打印，適用于微光學、光子學、微機械學和生物醫(yī)學...
型號： MPO 100 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:00:30 對比

微結(jié)構(gòu)的 3D 光刻 3D 顯微打印
8英寸電感耦合等離子體-深硅刻蝕設備
Pishow® D 系列深刻蝕設備，是針對8英寸~6英寸產(chǎn)線或科研深硅刻蝕工藝的專用設備，擁有自主開發(fā)的優(yōu)化設計，保證了優(yōu)異的刻蝕精度控制和損傷控制。...
型號： Pishow... 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:58:56 對比

深硅刻蝕
勻膠機
Laurell的EDC-650-8B勻膠機結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能。這款650系列EDC系統(tǒng)將可容納最大200mm晶圓和7英寸×7英寸（178mm&#...
型號： EDC-650-8... 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:57:02 對比

半導體前道勻膠機
半自動劃片機
6110是一款高精度、高性能單軸半自動劃片機，機身寬度490mm，占地面積小，結(jié)合全新設計的操作系統(tǒng)，提供高效、低使用成本的切割體驗。
型號： 6110 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:55:01 對比

劃片機

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