1.產(chǎn)品概述：
本沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。
2.設(shè)備用途：
可廣泛應(yīng)用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項(xiàng)目。
3.用戶評(píng)價(jià)：
TRP-450高真空鍍膜機(jī)其設(shè)備質(zhì)量過關(guān)，功能齊全，性能穩(wěn)定，自動(dòng)化程度高，抽氣速平穩(wěn)，電源穩(wěn)定可靠，氣路流暢密閉，鍍膜質(zhì)量平整光滑，均勻致密，結(jié)合力強(qiáng)，且系統(tǒng)操控智能，便捷，可滿足科研實(shí)驗(yàn)與生產(chǎn)制造的需求，是一款優(yōu)秀的磁控濺射鍍膜系統(tǒng)。——北京石墨烯技術(shù)研究院有限公司 李老師
4.真空室：
真空室結(jié)構(gòu):圓筒形開門
真空室尺寸:φ450x400mm
限真空度:≤6.6E-6Pa
沉積源:永磁靶3套，φ2英寸，可以向上濺射或向下濺射。
樣品尺寸，溫度:φ4英寸，1片，高800℃
占地面積（長(zhǎng)x寬x高）:約1米×1.8米×2米電控描述:全自動(dòng)
工藝:片內(nèi)膜厚均勻性：≤±3%
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