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化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號AIX 2800G4-TM

品牌愛思強

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地德國

更新時間:2024-09-05 10:29:00瀏覽次數(shù):345次

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化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)AIX 2800G4-TM (IC2)“基于 GaAs/InP 的光電子學(xué)和射頻應(yīng)用的 HVM 最佳反應(yīng)器"

1 產(chǎn)品概述:

化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)是一種高度專業(yè)化的設(shè)備,主要用于在特定襯底上沉積高質(zhì)量的化合物半導(dǎo)體薄膜。這些薄膜在電子、光電、微波通信等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。該系統(tǒng)通常集成了多種先進(jìn)的沉積技術(shù),如化學(xué)氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)、原子層沉積(ALD)等,以滿足不同材料和工藝的需求。

 

2 設(shè)備用途:

化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)的主要用途包括:

  1. 薄膜沉積:在硅、藍(lán)寶石、碳化硅等襯底上沉積高質(zhì)量的化合物半導(dǎo)體薄膜,如氮化鎵(GaN)、砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)等。

  2. 器件制造:用于制造高頻、高速、高功率的化合物半導(dǎo)體器件,如射頻功率放大器、微波器件、LED等。

  3. 材料研究:支持新材料的研究與開發(fā),包括新型化合物半導(dǎo)體材料的探索與性能驗證。

  4. 工藝優(yōu)化:通過精確控制沉積參數(shù),優(yōu)化薄膜的結(jié)晶質(zhì)量、成分、厚度等,提高器件的性能和可靠性。

3. 設(shè)備特點

化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)通常具備以下特點:

1 高精度與可重復(fù)性:采用先進(jìn)的沉積技術(shù)和精密的控制系統(tǒng),確保薄膜的厚度、成分、結(jié)晶質(zhì)量等關(guān)鍵參數(shù)具有高精度和可重復(fù)性。

2 多工藝兼容性:支持多種沉積工藝,如CVD、PVD、ALD等,可根據(jù)具體材料和工藝需求進(jìn)行選擇和優(yōu)化。

3 高度自動化:系統(tǒng)集成度高,自動化程度高,能夠?qū)崿F(xiàn)從襯底預(yù)處理、沉積過程到后處理的全程自動化控制,提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。

4 廣泛的材料適應(yīng)性:可適用于多種化合物半導(dǎo)體材料的沉積,包括但不限于GaN、GaAsInP等,滿足不同應(yīng)用領(lǐng)域的需求。

5 高效能:沉積速率快,生產(chǎn)效率高,同時能夠保持較低的能耗和成本。

4  設(shè)備參數(shù):

1、可用反應(yīng)器容量:42x2 英寸/11x4 英寸/6x6 英寸
2
、最高的晶圓吞吐量和快速的循環(huán)時間

3、通過提高均勻性和工藝穩(wěn)定性實現(xiàn)最大生產(chǎn)量

4、提高生產(chǎn)率


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