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當前位置：深圳市矢量科學儀器有限公司>>半導體前道工藝設備>>3 CVD>> Beneq C2R--空間原子層沉積ALD
| 參 考 價: | 面議 |
產(chǎn)品型號
品牌Beneq
廠商性質經(jīng)銷商
所在地芬蘭
更新時間：2024-09-05 14:56:52瀏覽次數(shù)：276次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)| 價格區(qū)間 | 面議 | 應用領域 | 能源,電子/電池,電氣,綜合 |
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1.產(chǎn)品概述：
Beneq C2R 將等離子體增強原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產(chǎn)。由于采用等離子體增強旋轉原子層沉積工藝，Beneq C2R 是厚原子層沉積膜的理想選擇，甚至可達幾微米。
2.產(chǎn)品配置:
Beneq C2R 具有基于 Brooks Automation 值得信賴的 MX400 傳輸模塊的自動化選項。
自動化服務包括：
Brooks MX400 基于集群的模塊
雙臂掃地機器人
樣品對準器
可選預熱和冷卻
3.產(chǎn)品優(yōu)勢：
超高沉積速率，高達每小時幾微米
批量 PEALD 工藝，適用于多達 7 個 200 mm 晶圓
適用于厚度達 30 mm 的鏡頭和其他 3D 基板
膜厚均勻性高，適用于要求苛刻的光學鍍膜應用
可配備負載鎖或晶圓自動化
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