PRO Line PVD 75
多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺
Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75 平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。PVD 75 在全球擁有 400 多臺設(shè)備，是一款久經(jīng)考驗(yàn)、堅(jiān)固耐用且用途廣泛的設(shè)計(jì)。PRO Line PVD 75 建立在原始設(shè)計(jì)的成功基礎(chǔ)上，改進(jìn)了系統(tǒng)基礎(chǔ)壓力和抽空時(shí)間。技術(shù)的腔室設(shè)計(jì)、具有高級編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)、自動(dòng)基板加載以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能是這種創(chuàng)新的設(shè)計(jì)提供的一些關(guān)鍵優(yōu)勢。®
規(guī)格
室
箱形304L不銹鋼腔體
內(nèi)部尺寸：
15.25“ 寬 x 16.50" 深 x 24“ 高
（387.4mm x 419.1mm x 609.6mm）
鋁，O 形圈密封，鉸鏈，前檢修門
沉積技術(shù)
熱蒸發(fā)
最多四艘 4 英寸的單艘船，或六艘 2 英寸的船組件
TORUS 磁控濺射源
多達(dá) 6 個(gè) 2 英寸或 3 英寸光源
多達(dá) 4 個(gè) 4 英寸信號源
電子束蒸發(fā)源
4 口袋 8cc
8 口袋 12cc
6 口袋 20cc
LTE10 有機(jī)沉積源
最多兩個(gè) 10cc 源
沉積方向
熱蒸發(fā)
向上
TORUS 磁控濺射源
向上、向下或側(cè)濺射
電子束蒸發(fā)
向上
LTE有機(jī)沉積
向上
底物操作
旋轉(zhuǎn)、加熱、冷卻、偏置、負(fù)載鎖定兼容
電源
DC、PDC、RF、MF 和 HIPIMS 電源
化工儀器網(wǎng)