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BA Gen4 鍵合機(jī)
BA Gen4 鍵合機(jī)在鍵合過(guò)程中精確對(duì)準(zhǔn)，鍵合對(duì)準(zhǔn)器 BA Gen4 Series 是專為手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)并鍵合兩個(gè) 200 毫米以下晶圓而設(shè)計(jì)的。選配掩模對(duì)準(zhǔn)器工具...
型號(hào)： BA Gen4 S... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:59:58 對(duì)比

BA Gen4系列鍵合對(duì)準(zhǔn)機(jī)鍵合對(duì)準(zhǔn)機(jī)SUSS BA Gen4 Series
電子萬(wàn)能試驗(yàn)機(jī)
電子萬(wàn)能試驗(yàn)機(jī) 產(chǎn)品簡(jiǎn)述：MTS Criterion40系列測(cè)試系統(tǒng)采用高速率、低振動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)裝置和集成、數(shù)字閉環(huán)控制裝置，在1N到100kN范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)力控、位...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:58:22 對(duì)比

電子萬(wàn)能試驗(yàn)機(jī)萬(wàn)能試驗(yàn)機(jī)試驗(yàn)機(jī)
有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
Kurt J. Lesker Company 的有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)和金屬 SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平臺(tái)的下一...
型號(hào)： SPECTROS&... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:57:23 對(duì)比

薄膜沉積 KURT.J.LESKER SPECTROS™ 150 有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
解鍵合機(jī)
LD12 解鍵合機(jī)模塊進(jìn)一步補(bǔ)充了 SUSS MicroTec 公司基于激光的晶片處理產(chǎn)品組合。其基本原理是使用高能量密度和低脈沖持續(xù)時(shí)間的準(zhǔn)分子Ji Guan...
型號(hào)： LD12 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:55:37 對(duì)比

LD12 SUSS 解鍵合機(jī)
12寸噴霧式涂膠機(jī)
KS-S300全自動(dòng)噴霧式涂膠機(jī)通過(guò)超聲波將光阻霧化為微小顆粒，適用于在大深寬比的圖形表面以高分辨率均勻地涂敷光刻膠，可以有效覆蓋溝槽的側(cè)壁和邊緣，避免溝槽堆積...
型號(hào)： KS-S300-S... 所在地：沈陽(yáng)市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:55:36 對(duì)比

涂膠顯影
化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng)
PD-220NL 是一種負(fù)載鎖定等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng)，能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。該系統(tǒng)以非常緊湊的占地面積...
型號(hào)： PD-220NL 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:55:35 對(duì)比

化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng)PD-220NL SAMCO
大氣式等離子清潔系統(tǒng)
PlasmaPen™ 是PVA TePla的大氣式等離子清潔系統(tǒng)，可滿足各種表面處理要求，如表面清潔及表面活化。
型號(hào)： PlasmaPen... 所在地：美國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:54:52 對(duì)比

半導(dǎo)體前道清洗
SiC用高溫離子注入設(shè)備
SiC用高溫離子注入設(shè)備 IH-860DSIC搭載了高溫ESC（靜電吸附卡盤(pán)）的面向SiC量產(chǎn)用的高能粒子注入裝置。
型號(hào)： IH-860DSI... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:53:53 對(duì)比

IH-860DSIC SiC用高溫離子注入設(shè)備
TEM Mill 精密離子減薄儀
TEM Mill 精密離子減薄儀功能介紹：1. 樣品載臺(tái)X-Y可調(diào)，可根據(jù)需要調(diào)整樣品減薄位置2. 具備原位實(shí)時(shí)觀察及記錄減薄過(guò)程功能3. 樣品可360...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:53:35 對(duì)比

精密離子減薄儀減薄儀
有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
概述針對(duì)有機(jī)材料沉積進(jìn)行了優(yōu)化多達(dá) 12 個(gè) LTE 信號(hào)源;1cc、10cc或35cc容量主體與摻雜劑比 1000：1多達(dá) 4 個(gè)熱蒸發(fā)源基板快門(mén)自動(dòng)基板、掩...
型號(hào)： Super-SPE... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:53:08 對(duì)比

薄膜沉積 KURT.J.LESKER Super-SPECTROS™ 200 有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
激光光刻機(jī).
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對(duì)工業(yè)級(jí)灰度光刻進(jìn)行了優(yōu)化，設(shè)計(jì)用于集成電路、MEMS、...
型號(hào)： DWL 2000 ... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:52:19 對(duì)比

微電子 MEMS 微流體
高溫型烤膠機(jī)
HP100-HT-CTM高溫型烤膠機(jī)，不銹鋼鍍陶瓷加熱，觸屏控溫，獨(dú)立電路，隔熱設(shè)計(jì)，安全耐用，高溫均勻，適合精密實(shí)驗(yàn)。
型號(hào)： HP100-HT-... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:51:44 對(duì)比

烤膠機(jī)
大功率可編程直流電源
H680系列直流可編程開(kāi)關(guān)電源，具有大功率、大電流、低紋波噪聲、快速瞬態(tài)響應(yīng)、分辨率高、精度高等優(yōu)點(diǎn)。電壓范圍由10V到1500V。電流范圍由10A到1200A...
型號(hào)： H680系列所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:51:25 對(duì)比

H680系列大功率可編程直流電源直流電源電源響河
Load-lock式濺射設(shè)備
Load-lock式濺射設(shè)備是可對(duì)應(yīng)從研究開(kāi)發(fā)到小規(guī)模量產(chǎn)的濺射設(shè)備。這種設(shè)備通過(guò)在真空濺射室之前增加一個(gè)預(yù)真空鎖室（Load-lock chamber），實(shí)現(xiàn)...
型號(hào)： CS-200 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:49:00 對(duì)比

Load-lock式濺射設(shè)備 CS-200
離子研磨系統(tǒng)
離子研磨系統(tǒng) 產(chǎn)品概述：為了對(duì)樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)進(jìn)行觀察、分析，必須讓樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)顯露出來(lái)，日立離子研磨裝置使用大面積低能量的Ar離子束，加工出無(wú)應(yīng)力損傷的截面，為S...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:48:40 對(duì)比

離子研磨系統(tǒng)研磨機(jī)
精密型烤膠機(jī)
HP6精密型烤膠機(jī)，全鋁機(jī)身，高精度控溫，獨(dú)立電路，真空吸附，數(shù)顯溫控，可選線性控溫，小巧便攜，適合手套箱使用。
型號(hào)： HP6 所在地：南京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:48:33 對(duì)比

烤膠機(jī)
化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
PD-3800L 化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)是一種能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的鎖載等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）系統(tǒng)。該系統(tǒng)由于采用了大...
型號(hào)： PD-3800L 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:43:16 對(duì)比

化學(xué)氣相沉積（PECVD）系統(tǒng)PD-3800L SAMCO
掃描隧道顯微鏡
掃描隧道顯微鏡技術(shù)優(yōu)勢(shì)：第三代的一個(gè)關(guān)鍵特征是液態(tài)氦保持時(shí)間增加 30%。這對(duì)于所有低溫實(shí)驗(yàn)都有很大的優(yōu)勢(shì)，降低了運(yùn)行成本，并為用戶提供了更多的靈活性。新...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:42:22 對(duì)比

掃描隧道顯微鏡電子顯微鏡
AP200/300 投影步進(jìn)式光刻機(jī)
AP200/300 系列光刻系統(tǒng)基于 Veeco 的可定制 Unity 平臺(tái)™構(gòu)建，可提供覆蓋層、分辨率和側(cè)壁輪廓性能，并可實(shí)現(xiàn)高度自動(dòng)化和具有成本...
型號(hào)：所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:41:07 對(duì)比

光刻投影步進(jìn)
等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVD
PlasmaPro 800 為大批量晶圓和 300mm 晶圓的等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）工藝提供了靈活的解決方案，它采用了緊湊的開(kāi)放式裝載系統(tǒng)。可...
型號(hào)： PlasmaPro... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:40:53 對(duì)比

牛津 PECVD 等離子增強(qiáng)

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