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擴散/氧化系統(tǒng)
HORIC D200系列擴散/氧化系統(tǒng)，半導體客戶端機臺裝機量大,可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機臺,安全性能高：設備及所使用的元件符合國標和國際標準。
型號： HORIC D20... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:38:36 對比

HORIC D200系列擴散/氧化系統(tǒng)北方華創(chuàng)
單晶爐
直拉法晶體生長系統(tǒng)SC 24單晶爐專為單晶硅晶體（硅錠）的工業(yè)生產(chǎn)而研發(fā)。該系統(tǒng)的模塊化設計理念可根據(jù)客戶的需求而進行靈活的調整。低能耗優(yōu)化設計的24英寸熱系統(tǒng)...
型號： SC24 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:33:42 對比

半導體晶圓單晶爐 SC24 PVA TePlad
碳化硅高溫氧化爐
VERIC A6151A 碳化硅高溫氧化爐，適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設備,最高溫度 2000℃，升溫速率可達 100℃/min,石墨電阻加熱，工藝腔室潔...
型號： VERIC A61... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:32:05 對比

VERIC A6151A 碳化硅高溫氧化爐退火爐北方華創(chuàng)
單晶爐
直拉法晶體生長系統(tǒng)CGS1218單晶爐，專為符合半導體行業(yè)的嚴格要求而設計。該系統(tǒng)采用模塊化設計，且可以配置鋼絲軟軸或硬軸。配合特殊的晶體軸配置能夠達到最高的精...
型號： CGS1218 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:26:40 對比

半導體晶圓單晶爐 CGS1218 PVA TePla
單晶爐
CGS-Lab單晶爐是PVA產(chǎn)品線中最小的直拉法晶體生長系統(tǒng)，專門為研究所和實驗室設計。10 英寸熱系統(tǒng)的設計用于最多 5 公斤的加料量和生長直徑為 100 毫...
型號： CGS Lab 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:23:55 對比

半導體晶圓單晶爐 PVA TePla CGS Lab
8英寸立式爐
FLOURIS 201系列 8英寸立式爐，高精度溫度場控制技術，可實現(xiàn) 1200℃ 內氧化退火工藝。
型號： FLOURIS 2... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:22:58 對比

8英寸立式爐 FLOURIS 201系列退火爐北方華創(chuàng)
條形等離子清潔系統(tǒng)
80 Plus 條形等離子清潔系統(tǒng)專為半導體加工而開發(fā)，可支持手動及自動操作，兩種操作方式均簡單易用。該系統(tǒng)可以配備或不配備裝卸站；此外，每個裝卸站都可支持不同...
型號： 80 Plus 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:05:42 對比

半導體前道清洗
區(qū)熔晶體生長系統(tǒng)
FZ-14 區(qū)熔晶體生長系統(tǒng)是專為工業(yè)生產(chǎn)直徑達100毫米（4英寸）的單晶硅晶體而設計。根據(jù)源棒的尺寸，可以拉出長度達1. 1米的晶體。在這個過程中，晶體的直徑...
型號： FZ-14 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:03:59 對比

半導體晶圓長晶爐 PVA TePla FZ-14
區(qū)熔晶體生長系統(tǒng)
FZ-14M(G)區(qū)熔晶體生長系統(tǒng)為制備單晶硅晶體樣品而設計開發(fā)，該系統(tǒng)用于工業(yè)多晶硅生產(chǎn)中的材料分析。生產(chǎn)過程中的小型多晶體樣品在氬氣環(huán)境中被感應熔化，并在籽...
型號： FZ-14M(G) 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:01:51 對比

半導體晶圓長晶爐 FZ-14M(G)PVA TePla
區(qū)熔晶體生長系統(tǒng)
FZ-30和FZ-35區(qū)熔晶體生長系統(tǒng)專為工業(yè)生產(chǎn)直徑達200毫米（8英寸）的單晶硅晶體而設計。根據(jù)源棒的尺寸，可以拉出長度為2000毫米的晶體。在這個過程中，...
型號： FZ-30和FZ-... 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:55:43 對比

半導體晶圓長晶爐 PVA TePla 區(qū)熔晶體生長系統(tǒng)
區(qū)熔法硅芯爐
SR110區(qū)熔法硅芯爐的工作方式與區(qū)熔系統(tǒng)類似。該系統(tǒng)使用一個在高頻感應線圈下直徑為100毫米的多晶硅棒（源棒）。根據(jù)硅棒的長度，在多個拉動工藝中可以產(chǎn)生特定數(shù)...
型號： SR110 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:34:04 對比

半導體晶圓長晶爐
批量晶圓處理等離子系統(tǒng)
批量晶圓處理等離子系統(tǒng)采用模塊化設計，其模塊化控制系統(tǒng)使用最新一代處理器，基于 Linux 平臺作為操作系統(tǒng)，以及圖形用戶界面 (GUI)。因此，可支持手動和全...
型號： GIGAbatch 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:21:44 對比

半導體前道清洗
物理氣相傳輸系統(tǒng)
SiCma系統(tǒng)專為通過物理氣相傳輸系統(tǒng)（PVT）的方式生產(chǎn)碳化硅晶體而開發(fā)。在此過程中，粉末狀的原材料在高溫下被加熱和升華，最后沉積在特定準備的基片上。這項工藝...
型號： SICma Sys... 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:19:40 對比

半導體晶圓長晶爐
LED映射分選機
MPI 自豪地推出 LED 映射分揀機系列，該系列采用模塊化架構設計，具有靈活性，使每個系統(tǒng)都能滿足每個客戶的精確要求。MPI LED 映射分揀機利用先進的 P...
型號： LED分選系列所在地：臺北市參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:14:48 對比

LED 映射分揀機分揀芯片分揀機 LED 器件分揀
垂直梯度凝固法系統(tǒng)
Kronos垂直梯度凝固法系統(tǒng)，用以解決基本工藝問題。該系統(tǒng)的高工作壓力意味著，即使其組分具有高蒸氣壓的材料也可以結晶。該系統(tǒng)可在10-40巴的壓力范圍內用于不...
型號： Kronos 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 15:51:00 對比

半導體晶圓長晶爐
透射電鏡樣品桿清洗機
CIF透射電鏡樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源設計，清洗快速高效，低轟擊損傷，同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。主要用于TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
型號： CIF-TEM 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 15:46:29 對比

清洗機透射電鏡樣品桿清洗機
12英寸立式低溫退火爐
THEORIS A302L 12英寸立式低溫退火爐，優(yōu)良的壓力控制系統(tǒng),高精度溫度場控制技術。
型號： THEORIS A... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 15:39:22 對比

12英寸立式低溫退火爐 THEORIS A302L 北方華創(chuàng)
12英寸單片清洗設備
Saqua SC3080A系列 12英寸單片清洗設備。
型號： Saqua SC3... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 15:34:10 對比

12英寸單片清洗設備 Saqua SC3080A系列北方華創(chuàng)
12英寸槽式清洗設備
WE3102系列 12英寸槽式清洗設備，可配備 i-Clean 多藥液工藝槽，支持 DN unit, DIO3 等附屬功能。
型號： WE3102系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 15:28:23 對比

WE3102系列 12英寸槽式清洗設備北方華創(chuàng)
去膠清洗機
英思特長期致力于半導體等行業(yè)干濕制程設備、自動供/排液系統(tǒng)、甩干機等設備的設計、生產(chǎn)、銷售及設備的優(yōu)化。期待與您的合作！
型號： customize... 所在地：南通市參考價：面議更新時間：2024/9/5 15:20:00 對比

去膠清洗機去膠機半導體

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