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IVG系列-全/半自動單/雙軸減薄機(jī)
半自動單軸減薄機(jī)是一款操作簡單、功能豐富、性價比高的高精度研削設(shè)備，采用手動裝片方式，配置自動厚度測量和補償系統(tǒng)，可自動研削至目標(biāo)值。工作臺可根據(jù)客戶需求進(jìn)行定...
型號：所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:04:05 對比

減薄機(jī)全自動半導(dǎo)體單雙軸半自動
半自動雙軸減薄機(jī)
半自動雙軸減薄機(jī)是一款安裝兩個砂輪軸的高精度研削設(shè)備，采用手動裝片方式，配置自動厚度測量和補償系統(tǒng)，產(chǎn)品粗磨后移動至精磨位置，自動研削至目標(biāo)值。工作臺可根據(jù)客戶...
型號： IVG-2035/... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:53:51 對比

減薄機(jī)
12英寸單片快速熱退火系統(tǒng)
Sitara TA230A 12英寸單片快速熱退火系統(tǒng)，適用于 260-1200℃快速熱處理工藝。
型號： Sitara TA... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:48:12 對比

12英寸單片快速熱退火系統(tǒng)Sitara TA230A 北方華創(chuàng)
碳化硅快速熱退火系統(tǒng)
Pallas A220 碳化硅快速熱退火系統(tǒng)，加熱分區(qū)設(shè)計，具備良好的溫度均勻性。
型號： Pallas A2... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:36:30 對比

Pallas A220 碳化硅快速熱退火系統(tǒng)北方華創(chuàng)
IVG-2040/3040 --全自動單軸減薄機(jī)
全自動單軸減薄機(jī)是一款高精度、高效率的研削設(shè)備，專為半導(dǎo)體制造、硅片加工、光學(xué)材料處理及薄膜材料制備等領(lǐng)域設(shè)計。
型號：所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:34:32 對比

減薄機(jī)半導(dǎo)體前道工藝
CMP
GNP POLI-762是高通用性12英寸(300mm) CMP工藝而開發(fā)，也為先進(jìn)晶圓制造商和耗材供應(yīng)商設(shè)計的。GNP POLI-500廣泛用于耗材供應(yīng)商，襯...
型號： GNP POLI系... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:32:48 對比

半導(dǎo)體化學(xué)機(jī)械拋光濕法
感應(yīng)式碳化硅長晶爐
APS系列感應(yīng)式碳化硅長晶爐，適用于 6 英寸、8 英寸，導(dǎo)電 / 高純半絕緣型 SiC 晶體生長。
型號： APS系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:30:49 對比

感應(yīng)式碳化硅長晶爐 APS系列
電阻式碳化硅長晶爐
AGF系列電阻式碳化硅長晶爐，適用于 6、8 英寸，導(dǎo)電 / 高純半絕緣型 SiC 晶體生長。
型號： AGF系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:27:53 對比

電阻式碳化硅長晶爐 AGF系列北方華創(chuàng)
CMP后清洗機(jī)
GNP CLEANER-812L型CMP后清洗機(jī)集成了兩個雙刷站，設(shè)計緊湊，占地面積小，可清洗(8“~12")晶圓。
型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:16:24 對比

半導(dǎo)體濕法化學(xué)機(jī)械拋光
雙面晶圓研磨機(jī)
雙面研磨機(jī)是一款操作簡單，兼容性強(qiáng)的高效率研磨加工設(shè)備。主要用于晶片的雙面機(jī)械研磨，通過搭配不同材質(zhì)的研磨盤和不同粒徑及材質(zhì)的研磨液，可以實現(xiàn)不同材料，不同尺寸...
型號： TDL-600/1... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:13:26 對比

晶圓研磨
CMP后清洗機(jī)
GNP CLEANER-428L型CMP后清洗機(jī)集成了兩個雙刷站，設(shè)計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~8“)晶圓。
型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:48:10 對比

半導(dǎo)體濕法化學(xué)機(jī)械拋光
CMP后清洗機(jī)
GNP CLEANER-412R型CMP后清洗機(jī)集成了兩個雙刷站，設(shè)計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2024/9/4 17:19:20 對比

半導(dǎo)體濕法清洗
CMP后清洗機(jī)
GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機(jī)集成了兩個雙刷站，設(shè)計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
型號： GNP CEANE... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:56:54 對比

半導(dǎo)體清洗濕法
CMP
GnP POLI-610專為藍(lán)寶石等復(fù)合晶圓的CMP工藝開發(fā)而設(shè)計。特別是該系統(tǒng)對于晶圓工藝開發(fā)具有較低的擁有成本，材料評估和生產(chǎn)前運行。
型號： GNP POLI-... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:51:37 對比

半導(dǎo)體濕法化學(xué)機(jī)械拋光
等離子清洗設(shè)備
PC-1100是一種平行板式等離子清洗機(jī)，用于清洗樣品表面的有機(jī)和無機(jī)污染。該工藝室允許用戶安裝多個電架，架式電配置的靈活性支持從小型電子元件到大型基板等多種產(chǎn)...
型號： PC-1100 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:16:58 對比

PC-1100 等離子清洗設(shè)備 SAMCO
紫外線臭氧清洗設(shè)備
UV-300HC紫外線臭氧清洗設(shè)備是一款高性能的盒式裝載UV臭氧清洗機(jī)，用于生產(chǎn)。這個行業(yè)先的系統(tǒng)有2個裝載盒，可以達(dá)到200-300nm/min的高灰化率。該...
型號： UV-300HC 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:01:44 對比

紫外線臭氧清洗設(shè)備 UV-300HC SAMCO
Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備
Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備ei系列是可對應(yīng)在基板上成金屬膜或氧化物膜的設(shè)備?？赏ㄟ^操作面板實現(xiàn)抽真空、成膜等作業(yè)內(nèi)容的集中自動化操作，適用于研究開發(fā)及少量生產(chǎn)。
型號： ei系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:42:25 對比

Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備 ULVAC 愛發(fā)科 ei系列
活性化退火設(shè)備
PFS系列是SiC工藝等高溫處理工藝中，配合使用的退火設(shè)備?？勺畲髮?yīng)φ 150mm。
型號： PFS系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:34:17 對比

活性化退火設(shè)備 PFS系列退火爐 ULVAC 愛發(fā)科
真空計
皮拉尼真空計，可以測量從大氣壓到5×10-2Pa的廣泛的壓力范圍該真空計從傳統(tǒng)的控制器（傳感器單元）中除去操作·顯示部，最大限度凝縮精簡功能...
型號： SW系列所在地：日本參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:24:10 對比

真空計
真空泵
VS系列是旋片式（單級）的油旋轉(zhuǎn)真空泵?？纱钆淞_茨泵獲得更大的排氣量。內(nèi)置油霧過濾器和回油裝置，排氣性能長期穩(wěn)定。此外，設(shè)計上還考慮到了油和濾芯更換等維保的便宜...
型號： VS系列所在地：日本參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:10:10 對比

真空泵

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