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化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
PD-3800L 化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)是一種能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的鎖載等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）系統(tǒng)。該系統(tǒng)由于采用了大...
型號(hào)： PD-3800L 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:43:16 對(duì)比

化學(xué)氣相沉積（PECVD）系統(tǒng)PD-3800L SAMCO
化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 設(shè)備
PD-2201LC 是一種盒式裝載等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 設(shè)備，能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。該系統(tǒng)在節(jié)省空間的提下提...
型號(hào)： PD-2201LC 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:16:09 對(duì)比

PD-2201LC 化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 設(shè)備 SAMCO
化學(xué)氣相沉積等離子體CVD系統(tǒng)
PD-220N是用于沉積各種硅薄膜（SiO2、Si3N4等）的等離子體CVD系統(tǒng)。 PD-220N在提供薄膜沉積所需的全部功能的同時(shí)，占地面積比本公司的傳統(tǒng)系統(tǒng)...
型號(hào)： PD-220N 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 17:41:10 對(duì)比

化學(xué)氣相沉積等離子體CVD系統(tǒng)PD-220N SAMCO
等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)
PD-330STC是一種低溫(80 ~ 400°C)、高速(300 nm/min)的等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)，可用于大規(guī)模生產(chǎn)。Samco的液態(tài)源CVD...
型號(hào)： PD-330STC 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 17:31:17 對(duì)比

等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)PD-330STC 化學(xué)氣相沉積 SAMCO
深硅刻蝕設(shè)備
RIE-400iPB是一款電感耦合等離子體放電設(shè)備，用于博世MEMS和電子元件工藝中的高速硅深孔加工。RIE-800iPB是為研究和開發(fā)目的而改裝的。該系統(tǒng)由R...
型號(hào)： RIE-400iP... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 17:12:01 對(duì)比

深硅刻蝕設(shè)備 RIE-400iPB SAMCO
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
RIE-350iPC是一種盒式裝載電感耦合等離子體(ICP)蝕刻設(shè)備，可處理多達(dá)ø350毫米的載盤，用于多晶圓批量處理。該系統(tǒng)為各種蝕刻應(yīng)用提供了堅(jiān)固...
型號(hào)： RIE-350iP... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 17:03:21 對(duì)比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 RIE-350iPC SAMCO
RIE等離子刻蝕系統(tǒng)
RIE-200NL是一種負(fù)載鎖定型的反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)，它提高了工藝的可重復(fù)性，并允許腐蝕性氣體化學(xué)。優(yōu)化的工藝室設(shè)計(jì)可在ø8 “晶圓或ø22...
型號(hào)： RIE-200NL 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 16:41:42 對(duì)比

RIE等離子刻蝕系統(tǒng)RIE-200NL SAMCO
等離子清洗設(shè)備
PC-1100是一種平行板式等離子清洗機(jī)，用于清洗樣品表面的有機(jī)和無(wú)機(jī)污染。該工藝室允許用戶安裝多個(gè)電架，架式電配置的靈活性支持從小型電子元件到大型基板等多種產(chǎn)...
型號(hào)： PC-1100 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 16:16:58 對(duì)比

PC-1100 等離子清洗設(shè)備 SAMCO
紫外線臭氧清洗設(shè)備
UV-300HC紫外線臭氧清洗設(shè)備是一款高性能的盒式裝載UV臭氧清洗機(jī)，用于生產(chǎn)。這個(gè)行業(yè)先的系統(tǒng)有2個(gè)裝載盒，可以達(dá)到200-300nm/min的高灰化率。該...
型號(hào)： UV-300HC 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 16:01:44 對(duì)比

紫外線臭氧清洗設(shè)備 UV-300HC SAMCO
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
RIE-230iPC是以電感耦合等離子體為放電方式，高速進(jìn)行各種材料的超精細(xì)加工的盒式ICP蝕刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過(guò)采用龍卷風(fēng)式線圈電，高效地產(chǎn)生穩(wěn)定的高密度等離子...
型號(hào)： RIE-230iP... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/27 10:19:08 對(duì)比

RIE-230iPC 等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備

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