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深圳市矢量科學儀器有限公司

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多腔等離子體刻蝕系統(tǒng)

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號customized

品牌矢量科學

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地深圳市

更新時間:2024-09-05 10:56:26瀏覽次數(shù):756次

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多腔等離子體刻蝕系統(tǒng)-概述:
1.方案是適用于最大 8 吋晶圓的多腔等離子體刻蝕工藝系統(tǒng)
2.系統(tǒng)可用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)
3.系統(tǒng)兼容 8 吋、6 吋、4 吋、3 吋晶圓和不規(guī)則碎片;不同尺寸樣片之間的切換、無需反應腔的開腔破真空

一、系統(tǒng)設備概述

多腔等離子體刻蝕系統(tǒng)是一款優(yōu)良的刻蝕設備,廣泛應用于半導體制造和微電子領域。該系統(tǒng)通過在多個腔室中產(chǎn)生等離子體,利用反應氣體對材料進行選擇性刻蝕,能夠?qū)崿F(xiàn)高精度和高均勻性的刻蝕效果。多腔設計使得設備能夠同時處理多個晶圓,提高生產(chǎn)效率和吞吐量。該設備適用于多種材料,包括硅、氮化物和金屬等,廣泛用于集成電路、MEMS 以及光電器件的制造。憑借其良好的刻蝕性能和靈活的工藝調(diào)節(jié)能力,多腔等離子體刻蝕系統(tǒng)在現(xiàn)代微納米加工中發(fā)揮著重要作用。

二、設備用途與原理

1.設備用途

多腔等離子體刻蝕系統(tǒng)主要用于半導體制造、微電子和納米技術(shù)領域。它廣泛應用于集成電路(IC)、微機電系統(tǒng)(MEMS)、光電器件及其他高精度微納加工,能夠?qū)崿F(xiàn)對硅、氮化物、金屬等多種材料的選擇性刻蝕。

2.工作原理

該系統(tǒng)通過在多個腔室中產(chǎn)生等離子體,利用反應氣體與材料表面反應,選擇性去除材料。首先,反應氣體被引入刻蝕腔室,經(jīng)過電場激勵后形成等離子體。等離子體中的活性粒子與待刻蝕材料表面發(fā)生化學反應,產(chǎn)生揮發(fā)性副產(chǎn)物,從而實現(xiàn)材料的去除。多腔設計使得系統(tǒng)能夠同時處理多個晶圓,顯著提高生產(chǎn)效率和均勻性。此外,系統(tǒng)的工藝參數(shù)可調(diào)節(jié),允許用戶優(yōu)化刻蝕速率和選擇性,以滿足不同應用的需求。

三、設備組成

1.方案是適用于大 8 吋晶圓的多腔等離子體刻蝕工藝系統(tǒng)

2.系統(tǒng)可用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)

3.系統(tǒng)兼容 8 吋、6 吋、4 吋、3 吋晶圓和不規(guī)則碎片;不同尺寸樣片之間的切換、無需反應腔的開腔破真空

4.系統(tǒng)包括:

一個六端口的轉(zhuǎn)接腔、帶機械手

六個端口分別連接:                                                    

1)一個ICP-RIE 刻蝕腔模塊:用于刻蝕鈮酸鋰;              

2)一個ICP-RIE 刻蝕腔模塊:配氟基氣體,主要用于刻蝕介質(zhì)、光刻膠去膠等;

3)一個 RIE 刻蝕腔模塊:配氯基氣體,主要用于刻蝕金屬等;                              

4)一個 loadlock 預真空室模塊:用于單片樣品的手動送樣;

5)一個真空片盒站模塊:用于多片片盒的自動送樣;           

6)一個端口備用,未來可升增加 1 個刻蝕或沉積反應腔模塊。

深硅刻蝕機

深硅刻蝕機PSE V300主要用于12英寸深硅刻蝕,同時兼具Bosch

深硅刻蝕機

深硅刻蝕機HSE P300主要用于12英寸硅刻蝕。采用Cluster結(jié)

等離子刻蝕集群系統(tǒng)

SENTECH 集群系統(tǒng)包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個轉(zhuǎn)移室和一

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