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當(dāng)前位置：深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司>>半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備>>2 PVD>> FJL560高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)
| 參 考 價: | 面議 |
產(chǎn)品型號FJL560
品牌沈陽科儀
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所在地沈陽市
更新時間：2024-09-05 10:05:00瀏覽次數(shù)：235次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)1.產(chǎn)品概述：
高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)先的軟件控制系統(tǒng)，用于納米單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應(yīng)用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
2.產(chǎn)品工藝：
真空室結(jié)構(gòu):圓筒形上升蓋
真空室尺寸:φ550x450mm
限真空度:≤6.0E-5Pa
沉積源:磁控靶3套，φ2英寸；
四工位轉(zhuǎn)靶1套；
樣品尺寸，溫度:φ2英寸，6片。高可以到達(dá)800℃
占地面積（長x寬x高）:約3米×1.1米×2米
電控描述:全自動控制
工藝:片內(nèi)膜厚均勻性：≤±3%
濺射源：考夫曼離子源 Kaufman 2套，φ2英寸
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