欧美激情在线一区二区三区,一区二区日本一区二区欧美,成年人三级在线观看视频

勻膠機
Laurell的WS-650-15B型勻膠機結(jié)構(gòu)緊湊，具有先進的功能。這款650系列系統(tǒng)將可容納高達300mm的晶圓和9英寸×9英寸（229mm...
型號： WS-650-15... 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:56:30 對比

半導體前道勻膠機
雙軸半自動劃片機
雙軸半自動劃片機是一款先進的半導體切割設備，廣泛應用于半導體制造和封裝領域。該設備結(jié)合了高精度、高效率和穩(wěn)定性等特點，能夠滿足現(xiàn)代半導體工業(yè)對切割精度的嚴格要求...
型號： 7920 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:54:18 對比

劃片機
劃片機
7234劃片機是一款高精度的半導體切割設備，主要用于晶圓或其他材料的切割加工。它配備了4英寸的空氣軸承主軸，采用直流無刷電機驅(qū)動，轉(zhuǎn)速高達30krpm，能夠兼容...
型號： 7234 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:35:19 對比

劃片機
勻膠機
Laurell的EDC-650-23B型勻膠機結(jié)構(gòu)緊湊，具有先進的功能。這款650系列EDC系統(tǒng)將可容納最大150mm晶圓和5英寸×5英寸（127mm...
型號： EDC-650-2... 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:32:39 對比

半導體前道勻膠機
有掩膜光刻機
VPG 200 / VPG 400 體積圖形發(fā)生器是光刻系統(tǒng)，專為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設計。它們支持所有標準的中小型面罩尺寸，最大尺寸為 4...
型號： VPG 200 /... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:25:58 對比

掩模制造
雙光子聚合直寫光刻機
MPO 100雙光子聚合直寫光刻機是一種雙光子聚合（TPP）多用戶工具，用于微結(jié)構(gòu)的 3D 光刻和 3D 顯微打印，適用于微光學、光子學、微機械學和生物醫(yī)學...
型號： MPO 100 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:00:30 對比

微結(jié)構(gòu)的 3D 光刻 3D 顯微打印
勻膠機
Laurell的EDC-650-8B勻膠機結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能。這款650系列EDC系統(tǒng)將可容納最大200mm晶圓和7英寸×7英寸（178mm&#...
型號： EDC-650-8... 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:57:02 對比

半導體前道勻膠機
半自動劃片機
6110是一款高精度、高性能單軸半自動劃片機，機身寬度490mm，占地面積小，結(jié)合全新設計的操作系統(tǒng)，提供高效、低使用成本的切割體驗。
型號： 6110 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:55:01 對比

劃片機
涂膠顯影機
KS-FT200/300系列堆疊式高產(chǎn)能前道涂膠顯影機，為我司自主研發(fā)的突破晶圓前道28nm工藝節(jié)點及以上工藝制程，適用于ArF、KrF、I-Line、PI、B...
型號： KS-FT200/... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:41:33 對比

涂膠顯影
氣相分解金屬沾污收集（VPD）設備
詳細介紹Seehund® A型氣相分解金屬沾污收集設備（VPD）是專為集成電路制造、大晶圓生產(chǎn)及再生、先導工藝研發(fā)等行業(yè)提供金屬沾污控制方案的產(chǎn)品。由...
型號： Seehund&#... 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:19:49 對比

金屬沾污收集
勻膠機
CIF勻膠機轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結(jié)構(gòu)緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學，硅片...
型號： MSC/SC1/2 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/2 17:12:57 對比

CIF勻膠機勻膠機
烤膠機
CIF烤膠機采用智能程序化控溫技術，控溫精準均勻，加熱快速高效，維修簡單方便，控溫范圍在室溫－360℃之間，控溫精度達到0.1℃。適用于各種控溫精度高，加熱均勻...
型號： PH22/35/2... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/2 17:12:27 對比

CIF烤膠機烤膠機
等離子去膠機
CIF等離子去膠機采用電感耦合各向同性（各個方向）等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復雜的幾何構(gòu)形都可以進行等離子體去膠。其外觀美學設計，結(jié)構(gòu)緊湊，漂亮大氣，...
型號： SPB-5/plu... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/2 17:10:10 對比

等離子去膠機去膠機
無掩模直接成像儀
VPG 300 DI 無掩模直接成像儀是一款體積圖案發(fā)生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設計。它源自掩模制作工具，具有所有先進的 VPG 系統(tǒng)...
型號： VPG 300 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/27 10:34:35 對比

高分辨率微結(jié)構(gòu)精確高效微結(jié)構(gòu)制造能力
有掩膜光刻機
VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機為光掩模（0.8至1.4 m）的高通量圖案化而定制。VPG1400是我們專為顯示行業(yè)設計的最大的系統(tǒng)。它是平板...
型號： VPG 800 /... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/8/27 10:28:56 對比

海德堡有掩膜
掩模對準光刻機
MA200 3代掩模對準光刻機專為大批量生產(chǎn)而設計，適用于200毫米以下晶圓和方形襯底的自動化加工。本系統(tǒng)集全場光刻技術與多種創(chuàng)新功能于一身。使其成為眾多應用的...
型號： MA200 Gen... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/27 9:37:26 對比

半導體光刻有掩膜
掩模對準光刻機
SUSS MicroTec為熱門化合物半導體工藝專門設計了一款新型光刻平臺：MA100/150e Gen2掩模對準光刻機?；衔锇雽w工藝，是指諸如高亮發(fā)光二極...
型號： MA100/150... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/8/27 9:36:10 對比

半導體 SUSS 光刻
涂膠和顯影機
ACS200 Gen3 涂膠和顯影機是創(chuàng)新組件和經(jīng)過生產(chǎn)驗證的組件結(jié)合的成功結(jié)果。它具有多達 4 個濕法工藝模塊和最多 19 塊板的能力，非常適合大批量生產(chǎn) （...
型號： ACS200 Ge... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/27 9:30:44 對比

涂膠顯影半導體前道工藝
涂膠與顯影機
ACS300 Gen3作為模塊化系統(tǒng)，是為滿足量產(chǎn)環(huán)境而專門設計的。它提供了復雜的涂膠、顯影和烘烤功能，可輕松地適應各種工藝。其的工藝控制，有效地支持廣泛的使用...
型號： ACS300 Ge... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:46:36 對比

涂膠顯影先進封裝
投影步進電機
AP200/300 系列光刻系統(tǒng)基于 Veeco 的可定制 Unity 平臺™構(gòu)建，可提供覆蓋層、分辨率和側(cè)壁輪廓性能，并可實現(xiàn)高度自動化和具有成本...
型號： AP200/300 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:21:06 對比

投影步進光刻

精品国产亚洲国产亚洲,久热中文在线观看精品视频,成人三级av黄色按摩,亚洲AV无码乱码国产麻豆

深圳市矢量科學儀器有限公司

深圳市矢量科學儀器有限公司

會員登錄

收藏該商鋪

提示